Bu almada yksek safiyette (% 99,5) tungsten karbr WC (% 7Co) hedef malzeme ve N2 reaktif gaz kullanlarak reaktif doru akm manyetik alanda sratma yntemiyle yksek hz elii ve silisyum (100) plakalar zerine farkl kompozisyonlarda tungsten karbonitrr ince filmler biriktirilmitir. Reaktif gaz ak oran % 5 ve % 50 arasnda deitirilerek kaplamalarn kimyasal kompozisyonlar deitirilmitir. retilen filmlerin kalnlklar, yapsal ve kimyasal kompozisyon zellikleri srasyla SEM ve EPMA-WDS ile analiz edilmitir. Filmlerin faz analizleri dk al ince film XRD ile yaplmtr. WCN kaplamalarn sertlikleri ve anma zellikleri nanoindentasyon ve anma testleri ile belirlenmitir. Son olarak, EPMA ile anma izlerinin grntleri alnm ve elementel haritalar karlarak anma izlerinde element deiiklikler incelenmitir. almada analiz ve test sonular reaktif gaz ak oran ile WCN filmlerin yapsal, mekanik ve tribolojik zellikleri arasndaki iliki incelenmitir. Daha az göster